DBD等离子体清洗技术应用研究
编号：87
稿件编号：10 访问权限：仅限参会人
更新：2025-09-11 22:26:44
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张贴报告
报告开始：2025年09月20日 14:00 （Asia/Shanghai）
报告时间：20min
所在会议：[S8] 张贴报告 » [S8] 张贴报告
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摘要
随着半导体制造工艺中对洁净性能要求越来越高，等离子体清洗技术得到了广泛的应用。等离子体清洗技术具有工艺高效、无残留、环保的优点，DBD等离子体清洗技术因大面积稳定放电优势，应用于半导体元器件的清洗。本文基于国内外相关研究，对等离子体清洗技术原理、清洗机理进行解读，为半导体制造工艺过程中的DBD等离子体清洗装置设计提供参考。
关键字
半导体 DBD等离子体清洗 工程应用 放电模式
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